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苏州汶颢提供 AZ系列光刻胶
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苏州汶颢提供 AZ系列光刻胶

AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率;高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进;广泛应用于全球半导体行业。

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    江苏 苏州 吴中区 苏州工业园区方洲路128号
品牌:AZ主要用途:光刻,生成图形

苏州汶颢提供 AZ系列光刻胶详细介绍

产品简介:

AZ 50XT光刻胶

AZ 50XT正性光刻胶性能稳定,是应用于电镀工艺的超厚光刻胶。

                                       AZ 50XT









AZ 5214E光刻胶







AZ 9260光刻胶

AZ 9260正性光刻胶,吸收系数小,是应用于厚胶刻蚀工艺的典型胶。








AZ P4620光刻胶



苏州汶颢提供相关AZ系列显影液,更多产品详情请浏览苏州汶颢微流控技术股份有限公司***。


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